Penapis seramik menawarkan kelebihan yang luar biasa termasuk kecekapan penapisan yang tinggi,{0}}operasi penjimatan tenaga, prestasi penapisan yang cemerlang, tahap automasi yang tinggi dan kos pengendalian yang rendah. Dengan media penapisan seramik termaju, ia membolehkan-pemisahan cecair pepejal yang cekap sambil menghasilkan turasan jernih yang boleh dikitar semula atau digunakan semula mengikut keperluan proses.
Semasa operasi, media seramik mikroporous meningkatkan saliran cecair dan pengekalan pepejal melalui penapisan kapilari, mencapai kek penapis kering yang terbentuk dengan kandungan lembapan boleh laras, biasanya kandungan lembapan adalah 8% -15%. Mengurangkan penggunaan wap yang diperlukan untuk proses pengeringan dan dehidrasi hiliran dengan ketara.
Disebabkan kebolehsuaian yang kukuh kepada media penapisan yang berbeza dan ciri bahan, penapis seramik digunakan secara meluas merentas pelbagai industri, termasuk logam bukan-ferus, pemprosesan kimia, perlombongan, metalurgi, perlindungan alam sekitar, rawatan air sisa, farmaseutikal, pemprosesan makanan dan industri arang batu. Ia menyediakan penyelesaian yang boleh dipercayai dan cekap untuk-aplikasi pengasingan cecair pepejal industri.
Operasi Produk
Kawasan Penyerapan Lumpur
Semasa peringkat penyerapan buburan, plat penapis seramik berputar direndam dalam buburan mineral. Di bawah tekanan vakum, cecair melalui plat penapis seramik mikro, manakala zarah pepejal dikekalkan pada permukaan plat untuk membentuk kek penapis.
Zon Lesap
Di zon larut lesap, kek penapis terus mengalami penyahairan. Cecair dan kekotoran yang tinggal dikeluarkan melalui sedutan vakum berterusan, meningkatkan kecekapan penapisan dan mengurangkan kandungan lembapan.
Kawasan Pengeringan
Kawasan pengeringan seterusnya menghilangkan lembapan daripada kek penapis melalui sedutan vakum. Proses ini membantu mencapai kek kelembapan yang lebih rendah dan meningkatkan kualiti produk pekat akhir.
Kawasan Menyahcas
Selepas sampai ke zon pelepasan, kek penapis yang dinyahair diasingkan daripada plat penapis seramik dengan sistem pengikis dan dilepaskan secara berterusan, memastikan operasi yang stabil dan automatik.
Kawasan Siram Belakang
Di zon pembilasan belakang, air bersih atau turasan digunakan untuk membalikkan siram plat penapis seramik, mengeluarkan zarah yang terperangkap di dalam liang mikro dan memulihkan prestasi penapisan.
Kembali ke Slurry
Selepas pembilasan belakang, cecair yang tinggal dikembalikan ke tangki buburan atau sistem kitar semula, meminimumkan kehilangan bahan dan meningkatkan kecekapan proses keseluruhan.
1 Plat Tersumbat
- Punca:
- Zarah atau sisik halus menyumbat liang seramik.
- Penyelesaian:
- Cuci belakang, pembersihan ultrasonik atau pembersihan asid.
Vakum Tidak Stabil
- Punca:
- Kebocoran udara atau bahagian pengedap yang haus.
- Penyelesaian:
- Periksa pengedap, garisan vakum dan komponen pengedar.
Kelembapan Kek Tinggi
- Punca:
- Kecekapan vakum yang rendah atau lebihan buburan.
- Penyelesaian:
- Laraskan kepekatan buburan dan periksa sistem vakum.
Kejelasan Penapisan yang Tidak Baik
- Punca:
- Media penapis rosak atau operasi yang tidak betul.
- Penyelesaian:
- Periksa plat seramik dan optimumkan parameter operasi.
Cairan Kek Sukar
- Punca:
- Kehausan pengikis atau bahan melekit.
- Penyelesaian:
- Periksa keadaan pengikis dan tetapan nyahcas.
Cool tags: penapis vakum cakera seramik putar cd, pengeluar penapis vakum cakera seramik putar cd China, pembekal, kilang, Mesin Penapis Vakum Cakera Seramik
